“1.5米扫描干涉场曝光系统”研制项目,是长春光机所首次承担的国家重大科研仪器设备研制专项。该项目拟通过干涉场步进扫描曝光方式,获得具有国际先进水平的大面积高精度全息光栅,进而满足深空探测、激光惯性约束核聚变等科学研究对特种光栅的战略需求。项目总经费8300万元,研制周期为5年。
该项目需突破精密光机结构加工、测量及系统装调技术,干涉场测量及相位锁定技术,关键环境控制技术等多个关键技术,将为相关领域的基础研究带来长足进步,也将进一步奠定了长春光机所在国内光栅制造领域的领军地位,推动我省光电子产业的技术进步和产业跃升。
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