Avantor™ Performance Materials&nbs

　　公司正在研究一种用于晶体硅表面纹理化流程 以改善电池效率的工程添加剂。

　　新泽西州菲利浦斯勃格 — 2011 年 2 月 22 日 — Avantor™ Performance Materials（以前称为 Mallinckrodt Baker）宣布，公司正在开发一种专有的新型流程化学制剂，旨在在多晶硅光电制造领域改善纹理化并最终提高电池效率。这种新型化学制剂目前正在进行试验规模的测试。

　　Avantor 在全球范围内使用两个知名且享有盛誉的品牌名称 J.T.Baker® 和 Macron™ Chemicals（以前为 Mallinckrodt® Chemicals）制造并营销高性能化学制剂和材料。这些 产品广泛用于微电子和光电制造；生物技术和制药生产以及科研、学术和质量控制实验室。本公司是经证明可提高晶体硅电池效率的光电表面处理特性化学制剂开发领域的拓荒者。

　　改善纹理化是许多晶体硅制造商的主要流程目标。在纹理化过程中，化学制剂用于以可控方式糙化晶片表面，从而降低其反射率并提高电池效率。用于完成这一步骤的典型化学制剂包括酸 (HF/HNO3) 和碱产品（IPA 和 KOH/NaOH）。

　　在用于更好地控制酸式纹理化流程的专有添加剂配料开发领域，Avantor 处于领先地位。公司正在设计配料以提高电池表面酸式蚀刻的可控性，因此制造商可以进一步降低表面反射率并在电池效率方面获得可观的提升。

　　“Avantor 致力于开发创新型解决方案（例如此纹理化技术）以帮助解决在提高晶体硅电池效率方面遇到的难题”，电子材料营销主管 John Bubel 说。“我们的目标是与使用批量化学制剂的光电制造商合作，帮助优化其生产流程以改善材料的利用、简化并在可能的情况下精简流程步骤，并使其制造成果具有更高的总体价值。”

　　Bubel 说，Avantor 的这种新型纹理化添加剂还有助于减轻纹理化过程中的缺损蚀刻。随着晶体硅晶片变得越来越薄，缺损蚀刻可能会降低电池的强度，从而在纹理化后的流程步骤中提高晶片破损率。公司的新型添加剂旨在降低这种影响，并实现已针对客户的具体晶体硅制造流程进行优化的可控流程。