拓纳化学推出后整理新染剂

　　近日，拓纳化学推出EDOLAN® HC 01和TANASSIST® ACE Conc.两款新产品。

　　EDOLAN® HC 01可广泛用于纺织品和非织造布涂层和后整理，该产品不含NMP基团，而且粒径远远小于EDOLAN® HC，因此可应用于所有的后整理方式。其性能及应用包括：具有良好平滑性的干爽表面，高日晒和抗紫外线牢度，极佳的耐水解性，可以任意比例溶于水中，适合压吸工艺应用，可与三聚氰胺或异氰酸酯交联以增强性能。

　　TANASSIST® ACE Conc.是用在所有腈纶染色工艺中的加速剂，还可以用于腈纶与纤维素纤维、尼龙及羊毛混纺织物中染色，同时该产品适合吸尽法和轧蒸法工艺。在吸尽法中，它可以缩短深颜色染色时间，在染色初始时，起到防止促染作用；当用于腈纶、尼龙或羊毛混纺时，可以防止相邻纤维被阳离子染料沾污。